科創板下周就開通，有人又搞幺蛾子，某隊該干活了，明天打爆空頭如何？

市場的風格又有了變化

以前每逢關鍵時刻，總是上證50站出來救主，但現在反而成了市場的累贅。

看上證指數，均線全部破位，看深指和創業板，則是穩穩的站好，蠢蠢欲動。

究竟哪邊才是真實的市場？

這事也不用太過糾結，哪邊看著舒服，就做哪邊，越是震蕩市，結構性越嚴重。

拋開指數，看看漲跌分布，漲停41家，5%以上87家，而跌停連續兩天0家，跌超5%不過18家。

雖然指數上波瀾不驚，但“大柚子”們做多的熱情還是不錯的。只是資金有限，不能普惠，就顯得賺錢效應不是那么明顯罷了。

昨天大洋彼岸又傳來不和諧聲音，威脅3000億，但A股表示無感。目前來看，雙方尤其是我方極其強硬。這可能是唯一的變數。只要和談不出大問題，市場依然為“短線客”提供了不錯的環境。

【鄰居爭端】

鄰居小兄弟的貿易爭端再度升級。

韓國三星證券投資戰略組長劉勝旻(音)7月16日表示，“日本很有可能會通過追加制裁提高施壓水平。對象可能是對日依存度較高、對韓國出口影響較大的產業”。他強調稱，“若首個攻擊目標是韓國的核心產業半導體，那么下一個目標可能是汽車和機械等”。

日韓爭端成為A股近期最大的熱點，從OLED到氟再到“新材”系，近乎壟斷了市場熱點。

而下午汽車零部件板塊集體拉升，有望接力成為新題材。

這篇報道的核心邏輯在于，之前市場在炒作的時候，會擔心兩個小兄弟突然和解，但有了這種進一步升級的預期后，前期爭端短期是不會有質的變化了。

關于“貿易摩擦概念股”，文末有彩蛋。

【光刻機】

近日，《上海市智能制造行動計劃（2019—2021年）》發布，提出在集成電路領域，重點以芯片制造、大硅片制備和封裝測試為主攻方向，推動光刻機、刻蝕機等關鍵技術裝備研制和產業化，提升芯片制造產業鏈的智能化和自主可控水平。

光刻機是芯片的卡脖子技術

光刻機又叫掩模對準曝光機，光刻系統等，用光來制作一個圖形工藝，將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時復制到硅片上的過程。

半導體制造過程中最復雜也是最難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為最重要的半導體制造設備，研發的技術門檻和資金門檻非常高，是全球最復雜的機器之一。

光刻機的很多零件精度都達到了納米級要求，集合了全球最頂尖的科技智慧。一款頂級光刻機的售價往往在通常在 3 千萬至 5 億美元之間，分辨率在七納米至幾微米，單憑一個地區的實力根本做不出來。

ASML 如今是世界上唯一能夠制造 EUV光刻機的廠商，目前最先進的光刻機就是EUV光刻機，每臺售價超過1億美元，而且供不應求。臺積電、英特爾和三星等半導體三家巨頭也都已經向ASML采購了EUV光刻設備。

2019年起，半導體芯片進入7nm時代開始（現在我們處于10nm時代），臺積電和三星都準備量產7納米的EUV工藝，并且明年也會是5納米工藝的一個重要節點。要知道，在半導體制造的工藝中，最重要而且最復雜的就是光刻步驟，往往光這部分的成本就能占到33%左右，所以半導體想要有突破性的發展，和光刻機的提升密不可分。

研制芯片需要光刻機但是研制光刻機還需要光刻膠

光刻工藝有兩個重要部分，一個是光刻機、一個是光刻膠。作為微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料，光刻膠是光刻機研發的重要材料，通俗的解釋是光刻機就是利用特殊光線將集成電路“映射”到硅片表面，而要想在硅片表面的避免留下“痕跡”，這就需要在硅片表面涂上一層特殊的物質，這個物質就是“光刻膠”。

光刻膠不止應用于芯片，而在高端面板、模擬半導體、發光二極管、光電子器件以及光子器件上應用廣泛。

此前，日本政府宣布限制三種日產半導體材料的對韓出口，三種材料中包括半導體制作過程中的核心材料光刻膠。韓國業內人士表示，日本政府指定的限制出口的材料是生產半導體和顯示器面板所必需的材料。韓國對日依賴度較高，因此出口限制帶來的打擊將非常大。在此背景下，國內相關產業鏈公司有望受益。

“光刻工藝”將獲大基金二期更多投入

眾所周知，為了發展國內集成電路產業鏈，國家成立了集成電路大基金。據悉，大基金二期募集資金約為2000 億元，主要聚焦集成電路產業鏈布局投資，重點投向芯片制造以及設備材料、芯片設計、封裝測試等產業鏈各環節，支持行業內骨干龍頭企業做大做強。

與此同時，由于大基金一期的投資注重于集成電路制造，因此二期的資金投資方向將向國內半導體產業鏈薄弱環節傾斜，即裝備和材料領域；而當前高端光刻機和高端光刻膠都尚處于空白，未來獲得資金和政策雙重支持的概率很大。

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